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光刻掩膜基板

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  • 产品描述

    采用合成石英玻璃，严格控制总厚度偏差（TTV）与局部平坦度，配合铬系或钼硅系光掩膜层，在深紫外（DUV）波段具有高内部透过率与低荧光效应。
     

    产品优势

    减小光刻投影过程中的场曲与畸变，保证纳米级线路复刻精度。
     

    产品结构图

    建议配图：半导体前道光刻用方形光刻掩膜基板；表面激光干涉仪检测平坦度伪彩云图。

应用产品

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